CARACTERIZACIÓN DEL DAÑADO ELECTRÓNICO RESIDUAL TRAS PROCESOS DE IMPLANTACION IONICA Y RTA EN SILICI

CARACTERIZACIÓN DEL DAÑADO ELECTRÓNICO RESIDUAL TRAS PROCESOS DE IMPLANTACION IONICA Y RTA EN SILICI (Libro en papel)

Editorial:
UNIVERSIDAD DE VALLADOLID
Año de edición:
Materia
Física
ISBN:
978-84-7762-935-1
Páginas:
3
Encuadernación:
Rústica
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